nanoArchR InP130 系统简介
nanoArch InP130是可以实现高精度微尺度3D打印的设备系统,它采用的是面投影微立体光刻(PμLSE:Projection Micro Litho Stereo Exposure)技术。该技术使用高精密紫外光刻投影系统,将需打印图案投影到树脂槽液面,在液面固化树脂并快速微立体成型,从数字模型直接加工三维复杂的模型和样件,完成样品的制作。该技术具备成型效率高、打印精度高等突出优势,被认为是目前最有前景的微纳加工技术之一。
微纳3D打印先行者和领导者
作为微纳3D打印先行者和领导者,在三维复杂结构微纳加工领域,BMF Material团队拥有超过二十年的科研经验,针对客户在项目研究中可能出现的工艺和材料难题,我们将持续提供简易高效的技术支持方案。
科研级3D打印系统
nanoArch InP130是科研级3D打印系统,拥有2μm的超高打印精度和5μm的超低打印层厚,从而实现超高精度的样件制作,非常适合高校和研究机构用于科学研究及应用创新。
科研级3D打印系统
nanoArch InP130是科研级3D打印系统,拥有2μm的超高打印精度和5μm的超低打印层厚,从而实现超高精度的样件制作,非常适合高校和研究机构用于科学研究及应用创新。
nanoArchR InP130 系统性能
光源

UV-LED(405nm)

打印材料

丙烯酸类/聚氨酯丙烯酸类/聚酯丙烯酸类/
聚醚丙烯酸类/光敏树脂类

光学精度

2μm

XY打印精度

2μm~10μm

打印层厚

5μm~20μm

打印样品尺寸

3.84mm*2.16mm

样品高度

2 mm in typical;
10 mm in Max

打印速度

2~7mm3/h

打印文件格式

STL

电气要求

3000W

系统外形尺寸

1720(L)*650(W)*1820mm(H)

重量

450kg

微纳制造 精密必现
nanoArch InP130是可以实现高精度微尺度3D打印的设备系统,它采用的是面投影微立体光刻技术(PμLSE:Projection Micro Litho Stereo Exposure)
微纳制造 精密必现
nanoArch InP130是可以实现高精度微尺度3D打印的设备系统,它采用的是面投影微立体光刻技术(PμLSE:Projection Micro Litho Stereo Exposure)

打印材料

通用型

丙烯酸类光敏树脂,比如HDDA,PEGDA等。

个性化

高强度硬性树脂、纳米颗粒掺杂树脂、生物医用树脂等。

打印材料

通用型

丙烯酸类光敏树脂,比如HDDA,PEGDA等。

个性化

高强度硬性树脂、纳米颗粒掺杂树脂、生物医用树脂等。

系统特点

高精度
(XY打印精度高达2μm)

低层厚
(5μm~20μm的打印层厚效果对比)
点击查看

nanoArch P130
打印精度:2μm~10μm,层厚5μm~20μm。
普通光固化机器
打印精度:30μm,层厚20μm。
×

微尺度大幅面的打印能力

光学监控系统,自动对焦功能

配置气浮平台,提高打印质量

优良的光源稳定性

配备完善的样品后处理组件
包括抽真空及紫外后固化

应用案例

微型弹簧

Dust Plug

微型弹簧

Alignment Pin-holes

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