摩方材料首台自主研发桌面级高精度微纳3D打印设备P140成功交付 精度高达10微米

2018-06-29

     

摩方材料首台自主研发桌面级高精度微纳3D打印设备P140成功交付

精度高达10微米


 

        摩方材料作为微纳尺度3D打印技术全球领先方案提供商,代表着颠覆性的全球高精度精密制造技术。自2016年成立至今,摩方的成长离不开客户的支持与肯定。我们始终坚持客户至上,基于市场需求,不断提升专业技术及研发能力,持续为客户优化3D打印解决方案,为其创造价值。

 

 

        2018年6月15日,摩方材料首台自主研发桌面级高精度微纳3D打印设备P140成功按时交付给湖南大学,这是摩方人夜以继日的努力成果。同时,也是摩方发展史上又一个关键性里程碑。

 

 

        nanoArch P140是桌面级高精度微尺度3D打印设备系统,光学精度及打印层厚可达10微米,在30微米以上超高精度领域占有绝对的优势。nanoArch P140采用面投影微立体光刻(PμLSE:Projection MicroLitho Stereo Exposure)技术。该技术使用高精密紫外光刻投影系统,将需打印图案投影到树脂槽液面,在液面固化树脂并快速微立体成型,从数字模型直接加工成三维复杂结构的模型和样件。该技术具备成型效率高、打印精度高等突出优势,被认是目前最有前景的微纳加工技术之一。

 

nanoArch P140 参数

nanoArch P140 应用领域

        nanoArchP140可用于打印复杂三维微结构,仿生材料,微传感器,石墨烯三维结构的设计、制备及力学性能研究,生物医疗,组织工程学,微流控,生物芯片,太赫兹等领域。


nanoArch P140 应用案例

 

关于摩方
        深圳摩方材料科技有限公司于2016年在中国深圳、美国波士顿及香港同步创立,立足中国,面向全球。公司核心技术团队由公司联合创始人兼麻省理工学院终身教授方绚莱教授领导;中高层科研团队来自多个领域,并拥有丰富的产业化经验,目前,在摩方担任资深科学家的有美国工程院院士、光学专家William Plummer教授,及被誉为“全球眼镜学之父”的Mo Jalie教授。


        微纳米尺度 3D 打印(微纳结构增材制造)是目前全球最前沿的先进制造领域之一。复杂三维微纳结构在微纳机电系统、精密光学、生物医疗、组织工程、新材料、新能源、高清显示、微流控器件、微纳光学器件、微纳传感器、微纳电子、生物芯片、光电子和印刷电子等领域有着巨大的产业需求。微纳尺度 3D打印和纳米架构分别在2014年和2015年被美国麻省理工学院《麻省理工科技评论》(MIT TechnologyReview)列为该年度十大具有颠覆性的创新技术。


        深圳摩方材料科技有限公司自主研发的3D打印系统已被美国麻省理工学院(M.I.T)、阿联酋Masdar Institute、南京大学、西安交通大学、中国科学院纳米所、香港城市大学等世界顶级科研机构使用。