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NanoArch makes its North American market debut.

2017-03-06


        UV.EB WEST2017于美国时间2月28日~3月1日在美国旧金山举行,摩方材料参加了此次展会,向北美市场推出全球第一台大幅面微纳尺度3D打印系统nanoArchTM。此次展会上,nanoArchTM受到APPLE、Magic Leap、美国科罗拉多大学(University of Colorado)等全球创新科技企业及高校机构的极大关注。展会现场的关注企业及高校与摩方材料进行了详细的技术沟通,并约定会后尽快推动开展合作。

       nanoArchTM是摩方材料自主研发的微纳尺度3D打印系统,具备微纳尺度打印精度、大幅面(80x80mm)、多材料打印、复合材料成型等特点,支持树脂、金属、陶瓷等多种打印材料。该系统采用PμLSE(面投影微立体光刻)技术,PμLSE(面投影微立体光刻)技术因具有成型效率高、生产成本低等突出优势被认为是目前最具有前景的微纳加工技术之一。

       2016年底nanoArchTM已投入产业化,摩方材料将在今年向阿连酋Masdar学院和南京大学固体微结构物理国家重点实验室提供该系列的实体系统。


 

 

 

 

 

 

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